二村竜佑氏が日本吸着学会奨励賞を受賞

二村竜佑氏が2019年度日本吸着学会 奨励賞 を受賞しました。

これに伴い、第33回日本吸着学会研究発表会(名古屋、2019/11/14-15)において、授賞式と受賞記念講演が行われました。

授賞対象研究名は「ナノ空間で同種イオンが形成する超イオン状態の解明と電場印加in-situ X線散乱測定法の開発」です。

 

投稿者: Iiyama

Shinshu University