二村竜祐氏が2019年度日本吸着学会 奨励賞 を受賞しました。
これに伴い、第33回日本吸着学会研究発表会(名古屋、2019/11/14-15)において、授賞式と受賞記念講演が行われました。
授賞対象研究名は「ナノ空間で同種イオンが形成する超イオン状態の解明と電場印加in-situ X線散乱測定法の開発」です。
Shinshu Univ., Physical Chemistry Lab., Adsorption Group
Iiyama & Futamura Laboratory
二村竜祐氏が2019年度日本吸着学会 奨励賞 を受賞しました。
これに伴い、第33回日本吸着学会研究発表会(名古屋、2019/11/14-15)において、授賞式と受賞記念講演が行われました。
授賞対象研究名は「ナノ空間で同種イオンが形成する超イオン状態の解明と電場印加in-situ X線散乱測定法の開発」です。